武汉某半导体技术进行加工芯片手工生产厂家，晶圆鑫霖环保方式中行成含硅、氟的唯一性废污水，设计进行加工大小1200吨/日。废污水物质简化，包含nm级硅粒状及氢氧化钠，经典进行加工形式难易未达标。 化工废水物质及起源 核心被污染的物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒级）、氟铝离子（200-300mg/L）、异丙醇 來源多种工序 ：晶圆刻蚀污水（45%）、CMP化学式自动化增加光泽污水（40%）、产品清洗水（15%） 补救加工流程步骤 不断创新选取"普通机械结晶+特总膜脱离"技术设备路线地图： 钙盐沉淀物中 ：添加氯化钙清理氟阴离子（添加CaF2析出） 斜板沉淀池不起作用 ：结合斜板沉淀池剂实现了固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜挤占微细科粒 反渗系统的 ：脱盐率>98%，收废率75% 汽化凝结 ：浓水段体现氟化物零污染物 终结的效果 氟化物溶液浓度：<8mg/L（超过国内一級规定10mg/L） 硅占比：<5mg/L 水资源保护英文使用率：70%适用冷凝塔保湿补水 垃圾减轻药量：汽化渣子量较傳統新工艺抑制60%