某半导体器件加工机构因晶圆难以清理流程产生含氨废气，用水量200吨/天。废气中除氧化还原电位外还所含氟化物和进样器血本属，净化处理難度大。内地尾气排放规定规定规定氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水的成分及来原 晶圆的洗涤废污水（最主要来自）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工艺废水处理：含进样器铜、镍等高价属，pH值振幅大 CMP粉磨废水处理工艺：含硅颗粒状及挥发酚 治理鑫霖环保标准流程 用到"耐腐蚀沉淀物中+膜溶合+折点氯化"组合起来加工： 预正确处理 ：加药系统CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 超滤膜设备 ：快速清理0.01μm左右粉末物 反融于浸提 ：将氯离子提液至1000mg/L上面的 折点氯化 ：精确度高调节氯添加量，将氯离子转换成为N2 阴离子互转 ：得到保障天价属不合格 从而使用效果 氯离子维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属份量低过检验限 水使用率达75% 飞灰生成量才能减少40%