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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆创造厂应用于豫东地区划分,关键产出加工8寸大光电器件晶圆,日访问量焦化废水减排量约800吨。致使产出加工过程中中动用过多氢佛酸做好晶圆蚀刻,导致焦化废水底氟化物溶液浓度高达到200-300mg/L,远超地区减排标准(10mg/L下面)。 废污水因素及来源于 废渣主要的出于以下三个基本原则: 晶圆蚀刻工步 :含高盐浓度氟化物(HF)、氯化铵及少量的天价属 电化学机械设备cnc精密机械加工(CMP)废气 :含nm级硅顆粒、无机络合剂 机器清理电镀废水 :含异丙醇、氧化还原电位等巧妙物 工作方法方法 运用"化学工业沉垫+混疑沉垫+深度.过滤水"三类正确处理整体: 两级整理 :加药氯化钙和氢阳极氧化钙,型成氟化钙石雕文化沉淀,氟化物清掉率达85% 下级外理 :获取PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),我们要除固体态空气挥发性有机物 三级视频净化处理 :利用多有机溶剂生物炭过滤和生物炭吸附性,留水氟化物氧化还原电位安全稳定在8mg/L如下 关健专用设备其中包括:pH自行调结设计、斜管积累池、板框带式压滤机(污泥处理脱水器)。 终究成果 工程运动三年期监控数值表现: 氟化物均浓度值:7.2mg/L(少于各国标准的) COD祛除率:92% 污水含水分率:≤65% 年回收公司氟化钙副新产品约150吨,满足自然资源化再生灵活运用

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